In-situ measurements of the recombination at the crystalline silicon / amorphous silicon heterointerface by time resolved microwave conductivity measurements during low temperature annealing and silane plasma exposure
NEITZERT, Heinrich Christoph;
1995
File in questo prodotto:
	
	
	
    
	
	
	
	
	
	
	
	
		
			
				
			
		
		
	
	
	
	
		
			Non ci sono file associati a questo prodotto.
		
		
	
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.


